刻蚀机和光刻机的区别(可以用联发科的天玑系列芯片吗)

刻蚀机和光刻机的区别，可以用联发科的天玑系列芯片吗？

开篇点题，华为可以用。即将发布的Nova 8 SE，搭载的正是联发科的天玑系列处理器。那么，联发科能否成为华为的救命稻草？更换天玑之后，华为手机能否依旧热卖？本文将一一为大家解答。

10月份华为发布Mate 40系列，由于禁令的困扰，Mate 40成为国内首款刚开售就可能面临缺货的手机。线下保时捷款，更是需要加价6000。虽然最近好消息不断，索尼、豪威科技、三星、Intel、AMD和台积电6家半导体厂商拿到许可证，恢复给华为供货。但由于台积电的许可证有附加条件，因此华为依旧无法重新委托台积电生产5nm甚至3nm的芯片。

所以，华为手机只能使用三星，高通，联发科等第三方处理器。考虑到禁令问题，只有联发科是华为的救命稻草。

一提联发科，很多人就将”山寨“，”低端“与之联系在一起，联发科早期是做DVD芯片起家，擅长光盘储存技术。为了开拓市场，联发科后来转做手机芯片。面对高通，德州仪器，英飞凌等巨头，联发科在夹缝中求生，联发科的多媒体方案，一度被山寨机模仿。

智能手机时代，联发科正式进军智能手机芯片。但跟高通同台竞技，联发科只能抢夺到中低端市场。最有代表性的，莫过于小米发布的千元机红米第一代手机，搭载的正是联发科的MT6589T芯片。从此，更多人将联发科和“千元机”划等号。所以，更换天玑后，华为手机可能难逃低端手机的困扰。

早期的小米跟联发科合作，将千元机推向高潮，今天国内使用联发科的手机型号有：OPPO的 Reno 4 SE搭载天玑 720，Realme x7pro搭载天玑1000+，小米的Redmi K30 至尊纪念版搭载天玑1000+等等。

那么联发科的天玑系列手机性能如何？我们看一下，手机CPU的天梯图，在天梯图中看看天玑系列手机的排名。

从图中可以看出，天玑1000+也是5G手机中的高端手机处理器跟麒麟990相当。虽然跟5nm工艺的A14，麒麟9000相比，稍稍落后。但就华为目前无手机芯片可用的境遇下，也不失为一种选择。在性能过剩的时代，也基本够用了。

作为国产FPGA芯片工程师，看到华为的遭遇，是十分的痛心的。在科技无国界的今天，竟然因为一纸禁令，导致自主研发的芯片不能被生产而深陷困境。我们必须要反思中国半导体产业链上的缺陷。虽然拿到许可给华为供货的芯片厂商越来越多，但我们中国半导体不能放松，更不能在同一个地方摔倒两次。必须痛定思痛，彻底解决芯片代工问题，不然悲剧一定会再次上演。

击刻技术的重要性？

刻蚀机的重要性

刻蚀机是芯片制造设备中重要性仅次于光刻机的第二重要设备，光刻机相当于画匠，刻蚀机相当于雕工。

光刻机，用比较形象的描述就是将电路图印在晶圆上，刻蚀机把光刻机印好的图案刻在晶圆上，主要利用化学途径选择性地一处沉淀层的特定部分。

刻蚀机主要分为介质、多晶、金属等几种，目前比较流行的是介质刻蚀，占比超过了50%，我国中微电子的介质刻蚀可以实现5nm的制程。

在芯片制造领域，我国的短板在于光刻机，与国外先进技术有一定的差距。刻蚀机处于世界领先的水晶，特别是中微电子的5nm芯片刻蚀机，此外还有北方华创的刻蚀机、盛美的清洗设备，处于世界领先水平。

蚀刻液与面板行业的发展前景？

发展前景很好，在芯片制造的所有设备中，光刻机的成本占比约为24%，而刻蚀机的占比约为20%，这两种设备合计占比为44%。从国内市场来看，刻蚀机尤其是介质刻蚀机，是我国最具优势 的半导体设备领域，也是国产替代占比最高的重要半导体设备之一。目前我国主流设备中，去胶设备、刻蚀设备、热处理设备、清洗设备等的国产化率均已经达到20%以上。

中微3nm蚀刻机与芯片光刻机区别？

这就是蚀刻机和光刻机之间的区别了

最简单的区别就是光刻机把电路图投影到覆盖有光刻胶的硅片上面，刻蚀机再把刚才画了电路图的硅片上的多余电路图腐蚀，这就是这光刻和蚀刻的难度。

光刻的过程就是现在制作好的硅圆表面涂上一层光刻胶，接下来通过光线透过掩膜照射到硅圆表面，因为光刻胶的覆盖，照射到的部分被腐蚀掉，没有光照的部分被留下来，这部分便是需要的电路结构。

蚀刻则是电路结构了，干刻目前还没有实现商业量产，其原理是通过等离子体代替化学溶液，去除不需要的硅圆部分。

光刻机的光源有什么要求？

对光源系统的要求

a.有适当的波长。波长越短，可曝光的特征尺寸就越小；[波长越短，就表示光刻的刀锋越锋利，刻蚀对于精度控制要求越高，因为衍射现象会更严重。]

b.有足够的能量。能量越大，曝光时间就越短；

c.曝光能量必须均匀地分布在曝光区。[一般采用光的均匀度 或者叫 不均匀度 光的平行度等概念来衡量光是否均匀分布]

常用的紫外光光源是高压弧光灯（高压汞灯），高压汞灯有许多尖锐的光谱线，经过滤光后使用其中的g 线（436 nm）或i 线（365 nm）。

对于波长更短的深紫外光光源，可以使用准分子激光。例如KrF 准分子激光（248 nm）、ArF 准分子激光（193 nm）和F2准分子激光（157 nm）等。

曝光系统的功能主要有：平滑衍射效应、实现均匀照明、滤光和冷光处理、实现强光照明和光强调节等。